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场发射扫描电镜SIGMA 300

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场发射扫描电镜SIGMA 300

品牌
ZEISS
型号
SIGMA 300
蔡司公司推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了很大,采用适宜的探针电流范围,降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间,提高效率。
编号
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产品描述

用于清晰成像的灵活探测:

利用先进探测术为您的需求定制 Sigma,表征所有样品。

利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。

利用新一代的二次探测器,获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器,在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。

自动化加速工作流程:

4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中,从快速成像和节省培训首先,先对样品进行导航,然后设置成像条件。

首先,先对样品进行导航,然后设置成像条件。

接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。最后使用工作流程的最后一步,将结果可视化。

高级分析型显微镜:

将扫描电子显微镜与基本分析相结合:Sigma 一流的背散射几何探测器大大提升了分析性能,特别是对电子束敏感的样品。

在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。

8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角,获取完整且无阴影的分析结果。

灵活的检测器选项,获取清晰图像:

使用新颖的ETSE和Inlens探测器在高真空下获取高分辨率表面形貌信息。

使用VPSE或C2D检测器在可变压力模式下获得清晰图像。

使用aSTEM检测器生成高分辨率透射图像。

使用HDBSD或YAG检测器分析成分。

技术参数:

分辨率:  1.0nm@30kV STEM  1.0nm @15 kV   1.8nm @1kV
加速电压 0.02—30KV 
放大倍数 10—1000000x
探针电流 调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)
X-射线分析工作距离 8.5mm    35度接收角 
低真空压力范围 2-133Pa (Sigma 300VP可用)
工作室 365 mm(φ),275mm(h)
5轴优中心自动样品台 X=125mm  Y=125mm  Z=50mm  T=-10°- 90°R=360°连续
系统控制 基于Windows 7 的SmartSEM操作系统
存储分辨率 32,000 x 24,000 pixels

 

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