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F50薄膜厚度测量仪

依靠F50先进的光谱测量系统,可以很简单快速地获得最大直径450毫米的样品薄膜的厚度分布图。采用r-θ极坐标移动平台,可以非常快速的定位所需测试的点并测试厚度,测试非常快速,大约每秒能测试两点。用户可以自己绘制需要的点位地图。F50系统配置高精度使用寿命长的移动平台,确保能够做成千上万次测量。

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产品描述

选择Filmetrics的优势

  • 桌面式薄膜厚度测量的全球领导者

  • 24小时电话,E-mail和在线支持

  • 所有系统皆使用直观的标准分析软件

附加特性

  • 嵌入式在线诊断方式

  • 免费离线分析软件

  • 精细的历史数据功能,帮助用户有效存储,重现与绘制测试结果

相关应用

半导体制造                                     液晶显示器                      光学镀膜                         微电子系统

• 光刻胶                                          • 间隙厚度                     • 硬涂层                            • 光刻胶

• 氧化物/氮化层/绝缘体上硅            • 聚酰亚胺                     • 抗反射层                        • 硅系膜状物

• 晶片背面研磨                                •  ITO透明导电膜                               

技术参数              
型号 F50-UV F50-UVX F50 F50-EXR F50-NIR F50-XT F50-s1310
厚度测量范围*: 5nm-40um 5nm-250um 20nm-70um 20nm-250um 100nm-250um 0.2um-450um 7um-2mm
测量n&k最小厚度*: 50nm 50nm 100nm 100nm 500nm 2um 100um
波长范围: 190-1100nm 190-1700nm 380-1050nm 380-1700nm 950-1700nm 1440-1690nm 1280-1340nm
准确度*:取较大者 1nm或0.2% 1nm或0.2% 2nm或0.2% 2nm或0.2% 3nm或0.4% 4nm或0.4% 50nm或0.4%
精度: 0.02nm¹ 0.1nm¹ 1nm¹ 5nm²
稳定性: 0.05nm³ 0.12nm³ 1nm³ 5nm²
光斑大小: 标准1.5 mm,可选配至150μm 600um 10um
光源及寿命: 氘灯:2000 Hours 钨卤素灯:1200 Hours SLED>10年
钨卤素灯:1200 Hours
电源: 100-240 VAC,50-60 Hz,100 Watts
尺寸: 14W x 19D x 11H(in)[35.5W x 48.3D x 28H(cm)]
重量: 35Ibs(16kg)
操作系统: PC:Windows XP (SP2)- Latest Windows (64-bit)
Mac:OS X Lion -Latest Mac OS running Parallels