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F3-sX薄膜厚度测量仪

F3-sX家族利用光谱反射原理,可以测试众多半导体及电解层的厚度,可测最大厚度达3毫米。此类厚膜,相较于较薄膜层表面较粗糙且不均匀,F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。而且仅在几分之一秒内完成。

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产品描述

应用

•        Si晶圆厚度测试

•        保形涂层

•        IC 芯片失效分析

•        厚光刻胶(比如SU-8光刻胶)

选择Filmetrics的优势

•        桌面式薄膜厚度测量的全球领导者

•        24小时电话,E-mail和在线支持

•        所有系统皆使用直观的标准分析软件

附加特性

•        嵌入式在线诊断方式

•        免费离线分析软件

•        精细的历史数据功能,帮助用户有效地

•        存储,重现与绘制测试结果

技术参数        
型号 F3-S980 F3-S1310 F3-S1550 VIS延伸
波长范围: 960-1000nm 1280-1340nm 1520-1580nm 400-940nm
光源: 200K小时 MTBF SLED 200K小时 MTBF SLED 200K小时 MTBF SLED 40K小时 MTBF SLED
SLED输出功率: 0.1mw 0.1mw 0.1mw /
厚度测量范围,n=1.5: 10um-1mm 15um-2mm 25um-3mm 20nm-65um
厚度测量范围,n=3.5(Si): 4um-350um 7um-1mm 10um-1.3mm 10nm-20um
准确度*:取较大者 0.4%or50nm 0.4%or50nm 0.4%or50nm 0.2%or2nm
精确度 5nm 5nm 5nm 0.02nm
稳定性 5nm 5nm 5nm 0.05nm
光斑尺寸 10um 10um 10um 8um
标准工作距离 53mm 53mm 53mm 53mm
工作距离公差,100um厚度 4mm 4mm 4mm /
工作距离公差,500um厚度 1.2mm 1.2mm 1.2mm /
操作系统: PC:Windows XP (SP2)- Latest Windows (64-bit)
Mac:OS X Lion -Latest Mac OS running Parallels